英伟达CEO黄仁勋：GAA晶体管或带来20%性能提升 但架构创新仍是关键

在近期GTC大会的问答环节中，英伟达CEO黄仁勋表示，采用全环绕栅极（GAA）晶体管的下一代制程技术可能为处理器带来约20%的性能提升。然而，他强调，英伟达GPU的主要性能飞跃仍源于公司自身的架构创新和软件突破。

黄仁勋在谈及2028年可能推出的“费曼”架构时提到，若采用GAA技术，性能或提升20%，但他同时淡化制程节点更迭的重要性，指出摩尔定律放缓后，制程进步带来的改进已趋于平缓。分析师指出，英伟达通常不率先采用最新制程，而是选择成熟工艺，如当前Ada Lovelace和Blackwell系列GPU采用的台积电4nm定制版本。

未来，英伟达或将在2028年采用台积电N2P或A16工艺，进一步优化性能。黄仁勋还表示，英伟达已转型为AI基础设施提供商，专注于基础技术研发而非终端解决方案。

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