尼康携手合作伙伴开发新型浸没式ArF光刻机，目标2028年推出

尼康在其2025财年第三财季财报演示文稿中透露，正与合作伙伴共同开发一款兼容ASML主导的浸没式ArF（ArFi）光刻生态的新型光刻机，预计于2028财年推出。此举旨在提升尼康在全球光刻机市场的份额，特别是在浸没式ArF领域，目前ASML凭借其TWINSCAN双工件台技术占据九成以上市场。

尼康认为，随着DRAM内存和逻辑半导体向三维发展，浸没式ArF光刻需求将持续增长。为吸引更多客户，尼康计划使新设备与ASML的同类设备生态兼容，方便用户从ASML平台迁移至尼康平台。此外，新一代光刻机将采用新镜头和工件台，具备尺寸紧凑、易于维护的优势。尼康还透露，再下一代产品的开发预计在2030年后启动。

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